从各种清洗方法来看，微波等离子体光源的缺点等离子清洗也是所有清洗方法中**彻底的剥离清洗方法。等离子体清洗一般采用激光、微波、电晕放电、热电离、电弧放电等方式将气体激发成等离子体状态。。表面等离子体蚀刻机用于硅片光刻胶去除的例子:等离子体脱胶法的原理是以干等离子体脱胶法为主要蚀刻气体的方法。该装置利用高频高压能量在真空等离子体蚀刻机的反应室中产生氧离子和游离氧原子。
从各种清洗方法来看，微波等离子体光源的缺点等离子清洗也是所有清洗方法中**彻底的剥离清洗方法。等离子体清洗一般采用激光、微波、电晕放电、热电离、电弧放电等方式将气体激发成等离子体状态。。表面等离子体蚀刻机用于硅片光刻胶去除的例子:等离子体脱胶法的原理是以干等离子体脱胶法为主要蚀刻气体的方法。该装置利用高频高压能量在真空等离子体蚀刻机的反应室中产生氧离子和游离氧原子。
