等离子体表面技术的一项重要工艺便是等离子清洗，那么，如何通过常压等离子体进行清洗。今天，我们来了解一下。
通过与电离气体发生化学反应以及经压缩空气加速的活性气体射流，将污物颗粒除去，转换为气相，并通过真空泵用连续气体流将其排出。由此所获得的纯度等级较高。我们常看到等离子清洗机喷射出来的火焰，并不是火，而是等离子体。
在发生氧化铜还原反应时，氧化铜与氢气的混合气体-等离子体接触，氧化物会发生化学还原反应，并生成水蒸汽。该气体混合物中含有 Ar/H2 或者 N2/H2，所含的 H2 **含量低于 5%。对于常压等离子体而言，其发挥作用的时候具有极高的气体消耗量。
在等离子清洗应用中，主要是利用低压气体辉光等离子体。一些非聚合性无机气体(Ar2、N2、H2、O2等)在高频低压下被激发，产生含有离子、激发态分子，自由基等多种活性粒子。一般在等离子清洗中，可把活化气体分为两类，一类为惰性气体的等离子体(如Ar2、N2等);另一类为反应性气体的等离子体(如O2、H2等)。
