常用的等离子清洗机的等离子体激发频率有三种：激发频率为40HZ的等离子体为真空等离子体，13.56MHZ的等离子体为常压宽幅等离子体，2.45GHZ的等离子体为大气等离子体。

不同等离子清洗机的等离子体产生的偏压是不一样的，三种不同的等离子清洗机的等离子体机制不同。真空等离子体发生的反应为物理反应，常压宽幅等离子体发生的反应既有化学反应又有物理反应，大气则是化学反应。

真空等离子体清洗对被清洁表面产生的影响**，因而实际半导体生产应用中大多采用水平真空等离子清洗机。而常压宽幅则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果更佳，典型的等离子体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体清洗；氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。