A）控制系统：控制系统的功能在于控制整个设备的运行，包括人机界面（触摸屏）、PLC、电气电路。采用全自动控制系统的真空等离子清洗，可实现多种模式多种程序对清洗设备进行控制，满足不同客户的需求。（B）激励电源系统：激励电源主要有三类：40KHz的中频激励电源，13.56MHz的射频激励电源，2.45GHz的微波激励电源。目前业界主要采用的是射频激励电源和中频激励电源。各自应用场合不同。（C）真空腔体：真空腔体主要是分为三种材质的：1）铝合金腔体，2）不锈钢真空腔体，3）石英腔体。根据用户的不同需求，可实现不同的放电模式和适用不同的样品尺寸和产能。（D）工艺气体系统：工艺气体包括流量计、气压阀等，用户可灵活选择多路的工艺气体方案，氩气、氧气、氢气、氮气、四氟化碳等，可满足不同工艺方案要求。清洗各种产品表面。（E）真空泵：真空泵分为油泵、干泵、罗茨泵，油泵主要采用双级旋片泵，根据用户所采用的腔体体积、工作效率、环境要求来制定真空泵的方案。成都、重庆都有销售驻点，可提供仪器上门演示。售前售后非常方便。
