等离子清洗是用等离子体通过化学或物理作用对工件表面进行分子水平处理，去除沾污，改善表面性能的工艺过程。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺。根据选择的工艺气体不同，分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。目前有四种激励电源频率，分别是直流、低频40KHz、射频13.56MHz及本文介绍的微波2.45GHz。
2024-05-01
等离子清洗是用等离子体通过化学或物理作用对工件表面进行分子水平处理，去除沾污，改善表面性能的工艺过程。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺。根据选择的工艺气体不同，分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。目前有四种激励电源频率，分别是直流、低频40KHz、射频13.56MHz及本文介绍的微波2.45GHz。
